发薪就能变强，我有十亿员工！ 第893节

　　“笑死，删帖速度挺快呀！这是森联资本出手了，还是他自己怕了？”

　　“森哥早被人暗杀了！下个月要是有他的公开露面，那肯定是替身！”

　　就在陈延森忙着推进EUV光刻机的研发进度时，网上关于他的谣言却越传越离谱。

　　据不完全统计，在网友的嘴里，陈延森的死法包括但不仅限于枪杀、被车撞、遭毒杀、溺水身亡等。

　　最终还是森联资本法务部联合微博、今日头条、斗音、快手和微信等多家平台，才把造谣的声音给压了下去。

　　而陈延森则在一周之内，就接到了老陈的三通电话，在确定自家儿子没事后，扭头便化身辟谣战士，跑到网上跟散布谣言的网友直接对线。

　　陈延森得知后，倒也没有阻拦。

　　毕竟和人吵架，也能预防老年痴呆。

　　时间转瞬即至，来到8月23日的傍晚。

　　盛夏的晚风，将星源科技研发中心的香樟树吹得枝叶婆娑，沙沙作响。

　　最里层的核心实验室，此刻却亮如白昼，空气里弥漫着一种近乎凝固的炽热。

　　时间的概念被恒定的温度和湿度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳动的数字。

　　陈延森穿戴整齐，裹得严严实实，与梁劲松、林南、汪象朝和章延杰等人站在控制台前，透过厚重的抗辐射玻璃，凝视着眼前的庞然大物。

　　尽管这台EUV光刻机只是Alpha样机，但金属机身在冷光灯下泛着精密的银辉，数不清的管线如脉络般缠绕，核心腔室的观察窗透出淡紫色的微光。

　　EUV光源、光学系统和双工件台的技术天堑，竟被他们一个接一个地成功攻克。

　　大厅里异常安静，只能听到通风系统低沉的嗡鸣。

　　工程师们穿着全套无尘洁净服，像手术室里的医生，在设备周围轻缓走动，进行着最后的检查。

　　“老板，各分系统自检完毕，真空机组随时可以启动。”

　　林南的声音略带沙哑，冲着陈延森汇报道。

　　陈延森点了点头道：“按计划执行，逐步建立光路真空。”

　　命令下达后，控制室内的气氛瞬间绷紧。

　　巨大的真空泵组开始工作，发出低沉的咆哮。

　　显示屏上，代表光路内部真空度的数字，呈现断崖式的下跌趋势：0.01 Pa、0.0001 Pa、0.000001 Pa，向着高真空迈进。

　　所有人的心都提到了嗓子眼！

　　极致的真空环境是EUV光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。

　　不知过了多久！

　　汪象朝突然大声喊道：“真空度稳定在0.0000006帕斯卡！已达预设值！”

　　控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动，有人轻轻握了握拳。

　　第一步，成功了！

　　为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？

　　这是因为EUV光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。

　　在真空环境中，可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。

　　若处于非真空环境，EUV光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。

　　这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。

　　因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。

　　“启动光源预热，功率设定为最低档位。”

　　陈延森语气平静地宣布下一道指令。

　　令人紧张的时刻到来！

　　这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（MCDE-EUV光），即将被唤醒！

　　如果一切正常，它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。

　　时间一分一秒地过去。

　　主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。

　　随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！

　　“有信号了！”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。

　　大家心里清楚！

　　第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！

　　几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！

　　一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！

　　许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。

　　林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。

　　陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。

　　“提高功率档位！”陈延森继续说道。

　　EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。

　　若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。

　　比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。

　　技术差一点，就是差了一大截！

　　而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。

　　闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：“收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。”

　　控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。

　　137瓦、168瓦、214瓦……

　　当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。

　　那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。

　　系统运行稳定！

　　“功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现能量泄漏！”

　　林南的声音比刚才响亮了几分，紧绷的肩膀也稍稍放松了一些，脸上绽放出一抹旁人看不见的灿烂笑容。

　　作为国产第一台EUV光刻机的核心研发人员，那是妥妥能登上教科书、评院士、留名青史的人。

　　他连忙深吸了一口气，强行控制住自己的情绪。

　　陈延森微微颔首，转头看向章延杰：“光学系统同步适配，检查光束匀化效果。”

　　章延杰立马调出照明光学模块的实时数据，屏幕上弹出一组光束截面分布图。

　　淡紫色的光斑均匀地覆盖在模拟掩模区域，边缘没有出现丝毫能量衰减的阴影。

　　“陈老师，光束匀化度99.2%，符合220瓦功率下的光学适配要求，成像光学系统已完成自动对焦校准！”

　　章延杰扬声回应道。

　　这一次，控制室内的骚动比方才更加明显。

　　有人悄悄抹了把眼角，还有人用拳头轻轻捶了下桌面。

　　从107瓦到220瓦，不仅仅是数字的提升，更是证明他们的MCDE-EUV光源既能“点亮”，也能在更高功率下保持稳定，这意味着量产的可能性又近了一步。

　　功率是制约工艺节点的重要因素！

　　制程微缩需实现更小的线宽和间距，要求EUV光具备更高的光学对比度，而功率是对比度的核心支撑。

　　220瓦的稳定功率，足以满足7纳米制程的芯片生产所需。

　　陈延森嗯了一声，接着吩咐道：“准备晶圆台与掩模台同步测试，加载测试晶圆，按28纳米制程参数设置曝光程序。”

　　汪象朝马上响应：“测试晶圆已通过机械臂送入预对准工位，掩模台已加载28纳米标准电路掩模版，同步精度校准中。”

　　顷刻间，众人的视线重新聚焦在主监控屏上。

　　屏幕被分成了四个画面：左上角是光源功率与等离子体状态，右上角是光学系统的光束分布，左下角是晶圆台的实时坐标，右下角则是掩模台的运动轨迹。

　　随着汪象朝按下按钮，两个精密平台迅速移动，它们的运动轨迹像两条精准咬合的齿轮，每一次微调都控制在0.1纳米以内。

　　“同步精度0.08纳米！已达预设标准！”

　　汪象朝说道。

　　陈延森看了一眼时间，此刻是晚上8点37分，距离真空泵启动已经过去了半个多小时。

　　他俯下身子，对着麦克风，向实验室的工作人员叮嘱道：“曝光开始，单次曝光时间设置为0.5秒，记录所有参数。”

　　核心腔室的观察窗内，淡紫色的微光骤然亮了一下，旋即恢复柔和。

　　光路末端的探测器疯狂刷新着数据，屏幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“线宽均匀度”、“图形套刻精度”的数值。

　　每一个数字都在朝着合格的方向靠近！