发薪就能变强，我有十亿员工！ 第815节

　　“老板，三洋那边松口了，20亿置换80%的股权，小日子想加钱，老子一毛钱没多给。”

　　高伟林自顾自地拉过一把椅子，笑吟吟地自吹自擂道。

　　事实上，三洋也是没办法了，业务缩减得厉害，要么忍痛割肉，把手里的股权转卖给森联资本；要么继续苦熬，还得养着4000多名研发工程师和一线操作工。

　　最后，只能骂骂咧咧地点头同意了。

　　“三洋的研发团队要留下，尤其是电池和电机领域的工程师，这些资产比生产线的设备更重要，小日子帮我们培养了几百名科研人员，可不能浪费。”

　　陈延森语气坚定地说道。

　　三洋在与荣事达、庐州国资合作的十年间，在高新区的生产基地内，建了一座大型研发中心，培养了600多名经验丰富的制冷设计、结构、电子电气和材料工程师。

　　这也是陈延森愿意接手荣事达三洋电器的主要原因。

　　“老板，我明白！核心工程师的薪资一律上浮15%，其他人上调5%。”

　　高伟林连忙接过话茬说道。

　　“得找个靠谱的人帮我盯着，人事部推荐的几名候选人我见了，骨子里就刻着‘捞钱’两个字，我都不是很满意，你帮我在港岛看看，有没有合适的人选。”

　　陈延森岔开话题说道。

　　“老板，我有个同学在港岛交易所上班，他的接触面比较广，一会我给他打个电话。”

　　高伟林想了想说道。

　　“可以，尽快去办。”陈延森应了一声道。

　　老高汇报结束，就走出了办公室，来到阳台边缘打起了电话。

　　陈延森则拿起右手边的文件，随意扫了一眼，接着把电子档的元件进行加密，发给了远在沪城的星源科技光学研发部。

　　封面上写着：多壳层掠入射椭圆收集镜系统！

第611章 国产光刻机的研发进程，至少缩短了十年！

　　自从星源科技与华科协会下属的光电所，联手研发出了‘磁约束放电等离子体光源’（即MDP）技术后，便开始着手攻克光刻机的第二大技术壁垒——光学系统。

　　毕竟，单是‘造出光’还不行，还得‘用好这束光’，才能完成晶圆曝光，进而实现芯片的生产制造。

　　可让陈延森顿感无奈的是，国内EUV光源激发方式的主流研发方向，基本以激光产生等离子体、放电等离子体或者激光诱导放电等离子体为主。

　　而星源科技光学部绝大多数工程师的技能和项目经验，都与研发需求不匹配。

　　所以在研发配套光学系统时，进度极为缓慢。

　　要知道，EUV光几乎会被所有物质吸收，因此无法使用传统的玻璃透镜，整个光路必须在真空环境中使用反射式光学系统。

　　收集镜、照明系统、投影物镜系统、掩膜版和掩膜台都得设计配套的技术方案。

　　MDP-EUV光源技术确实走出了一条独特的新路，但这种创新并非没有代价。

　　一切障碍，都要自己去扫平。

　　陈延森在获悉光学部的研发进度后，立马就绝望了。

　　他心里清楚，若不给这帮人指条明路，恐怕五年、十年，都没法往前迈出一步。

　　不得不说，他高估了林南团队的水平。

　　他没想到，这么简单的配套技术方案，林南等人却在正确的路口边缘，足足蹭了四五十天，却无丝毫进展。

　　于是，陈延森在开发出脉思（Mass）V1.0后，又马不停蹄地设计出了“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”。

　　这玩意本质上是一套精密的多层膜镜子，可以高效捕获EUV光源，并将其初步聚焦引导至照明系统里。

　　难点主要有两个：收集效率和抗损伤能力。

　　前者是因为EUV光线是向四面八方发散的，若想提升收集效率，就得设计复杂的多镜拼接结构，同时保证每片镜子的角度校准精度都要达到微米级。

　　然而，任何角度上的偏差都会导致光线漏失，从而影响到收集效率。

　　后者是因为等离子光源被激发后，会产生极高的温度，这就需要超强的抗损伤能力。

　　收集效率要求多层膜具备“薄、匀、纯、无遮挡”等特性，以最大化反射率和角度适配性。

　　而抗损伤能力要求多层膜又得“厚、硬、耐侵蚀”，必须增加额外保护层的材料。

　　听起来很矛盾，但这也正是收集镜的技术难点所在。

　　陈延森设计的这套“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”，便很好地平衡了收集效率与抗损伤能力。

　　不仅能够高效捕获由高功率脉冲放电、轰击金属锡靶产生的13.5纳米EUV光，还能将其汇聚到远处的中间焦点，为后续的照明系统提供足够功率且均匀的光束。

　　与此同时。

　　林南很快就发现了这封加密邮件，在打开技术文档后，先匆匆扫了一眼，接着就愣在了原地。

　　老板发来的这套方案太完整了，从光学设计的构型、入射角，再到基底材料、反射涂层、热管理子系统和电磁场碎屑减缓系统，甚至连镀膜工艺的参数表、误差校准的算法模型都附带在内。

　　此前光学部争论了半个月的“多镜拼接角度偏差”问题，文档里直接给出了“激光干涉实时校准”的解决方案，就连校准用的激光波长、采样频率都标注得一清二楚。

　　林南猛地站起身，声音都有些发颤：“这简直是把答案写了出来！”

　　技术文档里没署名，这套技术是老板买来的、抢来的，还是说除了星源科技光学部，森联资本其实另有研发实验室？

　　林南坐在工位上，忍不住胡思乱想着。

　　上次MDP-EUV光源技术的事，他就问过梁劲松和陈延森。

　　梁劲松一头雾水，陈延森则让他别瞎打听，他也只能把满肚子好奇压在心底。

　　可这一次，他又按捺不住了。

　　实在是“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术太强了，完全是一套完整且成熟的技术方案，由不得他不多想。

　　林南沉吟半晌，最后苦笑了一声，捏着手机的右手重新放下。

　　他知道有些问题，别人不想说，就代表不能说，或者说根本没有答案。

　　随后，他连忙召集核心研发人员开会。

　　会议室内，当大家看到文档中“多壳层椭圆结构”的三维模型时，原本沉闷的气氛瞬间沸腾。

　　光学系统设计组的主任工程师指着屏幕说道：“内层镜负责捕获中心60度范围内的EUV光，中层镜覆盖60到120度，外层镜补全120到180度，这样收集效率至少能提升到80%，压根就没法比，我们之前的那套方案跟垃圾有什么区别？”

　　更让众人惊喜的是热管理子系统！

　　文档中提出在镜体内部嵌入微通道水冷结构，搭配耐高温的钼铼合金基底，既能承受等离子体的高温冲击，又能避免温度过高导致多层膜脱落。

　　“我们最担心的‘高温损伤’问题，这套方案竟然连水冷通道的直径、水流速度都算好了！”

　　材料组的工程师翻到工艺参数页，激动地说道。

　　“对了，林工！这个梯度涂层的方案，从钼硅多层膜到二氧化硅保护层，每层的厚度误差控制在0.1纳米以内，还得用脉冲激光沉积法分80次沉积，这精度咱们的设备能达到吗？”

　　有人面露难色地担忧道。

　　林南皱起眉头，看向设备组的主任工程师问道：“蔡司镀膜机在恒温恒湿环境下，能不能把精度稳定控制在0.05到0.1纳米之间？”

　　设备组的主任工程师想了想，非常严谨地回答道：“连续沉积10层钼硅膜，厚度误差最小0.04纳米，最大0.09纳米，刚好能满足方案要求。

　　但问题是，每次换靶材、调整激光功率时，误差会出现0.12到0.15纳米的波动，80次沉积下来，累积误差可能会超标。”

　　林南思索片刻，给了一条解决思路：“那就加一道实时校准的流程，算法组先开发一套膜厚监测程序，跟镀膜机的传感器联动，每沉积10层，就自动暂停，用电子显微镜扫描膜厚。

　　根据实测数据调整下一轮的激光功率和沉积时间，把单次误差控制在0.05纳米以内。

　　另外，在镀膜机周围加一圈恒温罩，避免温度的负面影响。”

　　其他人闻言，顿时豁然明悟。

　　林南毕竟是沪城光学精密机械研究所的高级工程师，能力和技术兼而有之，又是胡锐晖极力推荐的人才，关键时刻能拿出行之有效的方案倒也正常。

　　事实上，在陈延森看来，像林南等人，智商、领悟力和创造力都不错，但苦于接触不到EUV光学的顶尖技术，这才像是鬼打墙似的，一直绕弯路。

　　若是能拥有同等的科研环境，林南未必开发不出一套收集镜系统，可很多事终究没有如果。

　　而陈延森能搞定这项技术，靠的也是远超常人百倍的精神力，以及能让他进入超频思维状态的【普朗克时钟】天赋。

　　不然以他原本的能力，或许也能突破这项技术，但要花费的时间，绝对不止半个月。

　　在拿到“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术方案后，星源科技光学部上下，立刻投入全部精力，以最快的速度反复打磨、全力复现，力求将这套系统成功应用到实际生产中。

　　算法组连夜加班，三天内就完成了膜厚监测程序的开发。

　　该程序可以实时采集镀膜机的激光功率、沉积时间数据，还能自动生成膜厚误差曲线，当误差超过0.05纳米时，将会触发暂停指令，进而对精度进行实时校准。

　　由于研发中心还有大量光电所的工程师，所以科学协会的大佬们，没过多久就得知了星源科技的技术突破。

　　“老胡，你帮我问问，星源科技还缺不缺人？”

　　沪城光学精密机械研究所的汪象朝，主动拨通了胡锐晖的电话，支支吾吾地说道。

　　“什么意思？你想辞职？开什么玩笑！”

　　胡锐晖反问道。

　　汪象朝可是沪城光学精密机械研究所的中流砥柱，主要的研究方向都在EUV光源领域，前后申请了170余项专利，妥妥的行业大牛。

　　“老胡啊，星源科技连自研的收集镜系统都弄出来了，你知道这意味着什么吗？再往下走，光源系统就能彻底打通，一旦完成双工件台的研发工作，第一台国产EUV光刻机就有了技术根基，你明白吗？”

　　汪象朝拿着电话，接连问道。

　　“老汪，你都一把年纪了……”