重生2010：我加点做大佬 第302节

　　“小馋猫！”

　　洛雯雯被他吻得脖子发痒，难受地扭动身子，丰腴的上半身被陈河宇压在身下。

　　“洛老板，我想听听你的工作汇报。”

　　陈河宇坏笑道。

　　“现在咖啡馆开到1400多家门口，预计年底，可以做到3500家门店，距离万店计划还要……”

　　洛雯雯脸露疑惑，还是笑着解释道。

　　“我要得不是这个。”

　　陈河宇凑过去，小声耳语。

　　听完后，洛雯雯的皮肤上顿时泛起浅粉色，害羞地闭上眼睛，不敢再睁开。

第232章 量产28纳米芯片，觊觎华耀的芯片设计方案

　　翌日。

　　夏蝉轻鸣，暑气蒸腾。

　　陈河宇再次睁开眼睛，怀里躺着一个欺霜胜雪的小可爱，长发如瀑，身躯玲珑有致。

　　嘴唇丰盈莹亮，像颗水嘟嘟的果冻。

　　掀开毯子一角，他轻手轻脚走出房间，来到卫生间洗漱，脊背强壮挺拔，得益于长年的锻炼和加点优化。

　　全身上下没有丝毫赘肉，肌肉线条棱角分明。

　　回到屋内，小丫头还在呼呼大睡，他拿起手机看了一眼时间，上前摇晃她的香肩。

　　“再不起床，上班就要迟到了。”

　　陈河宇提醒道。

　　“我是老板，谁敢查我考勤，嘻嘻。”

　　洛雯雯迷迷糊糊道。

　　“你难道忘了，投资人材是金主爸爸，在我面前，还敢偷懒！”

　　陈河宇低下头，凑到她的耳边说道。

　　“都怪你，折腾人家那么久，现在完全起不来了怎么办？”

　　洛雯雯打开眼眸，细长的睫毛微微颤抖，慢悠悠说道。

　　浑身无力，大腿酸胀。

　　“额，那就好好在家休息，上午我要去一趟山海微电，不能在家陪你。

　　一会我让刘姨做好早饭，记得起来吃。”

　　陈河宇捏着她的小脸，笑着道。

　　“吃吃吃！我知道啦，讨厌鬼，玩完就跑！”

　　洛雯雯娇哼道。

　　“晚上再教训你。”

　　陈河宇微微一笑，走进衣帽间，换上一套西服，等来到一楼时，老默已经在门外静候多时。

　　“去山海微电。”

　　“好的，车程大约二十分钟。”

　　丁默立马回道。

　　“哟？今天有点不一样？出去约会了？”

　　陈河宇揶揄道，发觉老默的话，开始多起来。

　　老默的脸色，“唰”地一下就红了，连忙狡辩道：“没有没有。”

　　“真的吗？想娶沪城的姑娘，至少要有一套房吧，首付够不够？”

　　陈河宇问道。

　　“还差30万，再赚两年就够了，而且我在燕城还有一套老房子。”

　　丁默下意识回道。

　　“噢？都在考虑买房子了，看来关系进展很快嘛。”

　　陈河宇笑吟吟道，看着一脸局促的老默。

　　“老板，我……”

　　丁默还想解释什么。

　　“再过两年，我怕房价翻倍，你的30万还没赚到，一会我让财务打你账上，注意查收。”

　　陈河宇笑了笑，直接拍板道。

　　“谢谢老板。”

　　丁默想了想，没有拒绝，靠工资和炒股赚钱太慢，他真的有些吃力，担心追不上房价上涨的速度。

　　心中涌起一番感动，老板对他的关照，被他深深记下。

　　“又不是不要还？开心什么？”

　　陈河宇打趣道。

　　……

　　少顷。

　　再次来到广蓝路软件园，紫港电子的招牌业已换成了山海微电，重新焕发新生。

　　来往的工作人员脸上，写满自豪之情。

　　所有人都知道，今天上午，公司即将进行28纳米芯片的生产启动会，若是能圆满成功，就可以成为华国第一家实现中高端芯片大规模量产的半导体企业。

　　这意味着大量的订单，急剧膨胀的市值，和丰厚的奖金！

　　与公司的每一个人息息相关，在陈河宇掌权后，对山海微电的组织架构梳理重塑，留下来的人基本领到了一份分红股权。

　　每到年底，会根据净利润额进行奖金分配，大大提高了员工的研发生产积极性。

　　“陈总，芯片的掩膜模板制作完成，我们可以先去光刻机车间参观。”

　　何婷波迎了上来。

　　“老板。”

　　王茂松招呼道。

　　“按你说得来，预估良品率能控制在多少？”

　　陈河宇走在前方，侧身问道。

　　“结合实验室的数据，粗略判断在80%以上。”

　　技术方面的核心参数，何婷波最为熟悉，不假思索道。

　　“低了一些，要是那100台NXT 1950i DUV光刻机到货以后，还有下降的空间吗？”

　　陈河宇追问道。

　　20%的报损率着实有些高，但没办法，山海微电的光刻机大多都是老旧的设施，能正常刻录芯片就算不错了，不敢奢望太多。

　　对比国产光刻机70%的良品率，这个数值勉强还能接受。

　　“估计可以做到90%！”

　　何婷波回道。

　　英特、波通这些芯片巨头，基本也是使用的NXT 1950i DUV光刻机，良品率稳定在90%。

　　“嗯，我知道了。”

　　陈河宇点点头回道，在EUV光刻机还未诞生的年代，90%的良品率实属不易。

　　要等到2018年，EUV光刻机得到广泛应用，才能应对日益精密的半导体制造需求，极大提升良品率问题。

　　这是因为EUV光刻机采用的是极紫外光源，而DUV光刻机使用的是深紫外光源。

　　EUV光源的波长约为13.5纳米，比DUV光源的波长要短得多，可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸，较短的波长能够产生更细腻的图像。

　　但并不是没有缺点，制造和维护成本都较高，光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题，没有三五年，想要应用到半导体工业中，简直痴心妄想。

　　一行人来到制造部门，换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套，以及防护面罩，以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。

　　众人站在一旁，随着陈河宇示意。

　　一名操作员出列，立马取出一块8英寸晶圆，经过仔细观察，确保表面没有任何杂质和污染物，又拿出带有电路图案的透明底片，也就是光掩膜的模板，小心翼翼放置在光刻机上。

　　“继续吧。”

　　陈河宇对这些操作并不陌生，系统在录入Fan-Out封装技术后，脑子里便多出几十年芯片封测经验，可以看出操作员的动作非常娴熟。

　　处理到这里，操作员又使用旋涂机将光刻胶涂在晶圆上，因为光刻胶是感光性的，可以通过紫外光曝光后改变化学性质，形成复杂的电路图案。